应用讯息

上海伯东美国 KRI 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 套装包含离子源本体和电源控制器. 射频离子源单次工艺时间更长, 特别适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜!
大口径射频离子源 RFICP 380-------------- 离子源自动控制器 --------------   -------- 射频离子源 RFICP 380 本体 ----

射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV

射频离子源 RFICP 380 技术规格:

阳极

电感耦合等离子体
2kW & 1.8 MHz
射频自动匹配

最大阳极功率

>1kW

最大离子束流

> 1000mA

电压范围

100-1500V

离子束动能

100-1200eV

气体

Ar, O2, N2,其他

流量

5-50sccm

压力

< 0.5mTorr

离子光学, 自对准

OptiBeamTM

离子束栅极

38cm Φ

栅极材质

钼或石墨

离子束流形状

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

38.1 cm

直径

58.2 cm

锁紧安装法兰

12”CF


大口径射频离子源典型应用:
射频离子源安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产
射频离子源
在高倍显微镜下检视脱膜测试
上海伯东RFICP325脱模测试

--------- 使用其他品牌离子源---     --------------------- 使用美国 KRI 射频离子源 ----------------------

从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国 KRI 射频离子源, 样品无崩边


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
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