NS 离子蚀刻机 20IBE-C
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NS 离子蚀刻机 20IBE-C

NS 离子蚀刻机 20IBE-C:适合中等规模量产使用的离子刻蚀机,样品台可选直接冷却 / 间接冷却

基板尺寸

< φ3 X 8wfr; < φ4 X 6wfr; < φ8 X 1wfr

NS 离子刻蚀机 可选

样品台

样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转

离子源

20cm 考夫曼离子源

均匀性

±10% for 8”Ф

硅片刻蚀率

20 nm/min

温度

<100


NS 离子蚀刻机 20IBE-C 组成
NS 离子蚀刻机

离子蚀刻机


伯东离子蚀刻机主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置,使得在薄膜磁头,半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用。
2. 物理蚀刻的特性,无论使用什么材料都可以用来加工,所以各种领域都可以被广泛应用。
3. 配置使用美国考夫曼公司原装制造的离子源。
4. 刻蚀角度可以任意调整,蚀刻可以根据需要做垂直,斜面等等加工形状。
5. 基板直接加装在直接冷却装置上,所以可以在低温环境下蚀刻。
6. 配置公转自转传输机构,使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。
7. 机台设计使用自动化的操作流程,所以可以有非常友好的使用生产过程。

离子刻蚀机 3-4inch 20IBE 视频

通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
NS离子蚀刻机

 

 

 

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