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离子刻蚀 IBE
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离子刻蚀 IBE

离子刻蚀 IBE
上海伯东代理 AdNaNo 铠柏科技超高真空离子刻蚀机 IBE, AdNaNo 数十年来一直致力于超高压沉积技术, 帮客户定制设备完成特殊应用, 在客户预算内提供一流组件和先进的设计!

离子刻蚀机 IBE

 特性
 Base Pressure  5E-10 torr
 - 美国 KRI 离子源 RFICP 100
 - Tilatable(+/45), continuously rotatble manipulator with water cooling

 

离子刻蚀机 IBE

 特性
 - Base Pressure  5E-10 torr
 - 美国 KRI 离子源 KDC 75
 - Tilatable(+/180), continuously rotatble manipulator with water cooling


上海伯东代理铠柏科技制造的超导结制备用电子束蒸镀设备, 铠柏镀膜机专精于金属及氧化物薄膜的制备, 可用于超导量子实验室制备超导结 (量子比特和约瑟夫森结) 和量子器件, 可以制备大面积, 高稳定性和可重复性超导结. 提供各种类型的 MBE, E-beam, Sputter, IBE. 提供客制化设备, 擅长各种类型系统的集成. 

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