KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列

1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson,Inc 公司,研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless。美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利。广泛用于离子清洗、离子蚀刻、辅助镀膜领域。上海伯东是美国考夫曼离子源(离子枪)中国总代理。

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列, 栅极灯丝型离子源, 通过加热灯丝产生电子, 提供低电流高能量离子束. 离子束可选聚焦,平行, 散设三种方式, KDC 系列离子源适用于离子溅镀和蒸发镀膜 PC, 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD, 表面改性, 激活 SM, 离子溅射沉积和多层结构 IBSD, 离子蚀刻 IBE 等.

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列

考夫曼离子源 Gridded KDC 特性:
栅极,低电流高能量宽束型离子源
离子束可选集中,平行,散设

KRI 考夫曼离子源 KDC 10

考夫曼型离子源 KDC 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中

KRI 考夫曼离子源 KDC 40

小型低成本直流栅极离子源.KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款

KRI 考夫曼离子源 KDC 75

KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm

KRI 考夫曼离子源 KDC 100

考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源,广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中

KRI 考夫曼离子源 KDC 160

KRI 考夫曼离子源 KDC 160 是目前考夫曼 KDC 系列最大,离子能量最强的栅极离子源

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