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上海伯东 Pfeiffer 分子泵 HiPace 80 应用于 PLD 脉冲激光沉积设备
上海伯东某 OEM 客户研发生产科研用真空镀膜和沉积设备. 经过伯东推荐真空部分采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 80 和高精度薄膜真空规 CMR 361 用于定制大型脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition 系统. 从而实现该系统制备金属, 半导体, 氧化物, 氮化物, 碳化物, 硼化物, 硅化物, 硫化物及氟化物等各种物质薄膜和制备一些难以合成的材料膜, 如金刚石, 立方氮化物膜等.

科研定制 PLD 系统配置:
分子泵 HiPace 80 *8
薄膜真空规 CMR 361 *3
真空规 TPR 280 *1

伯东 Pfeifer 分子泵 HiPace 80 主要参数和抽气性能

型号	HiPace 80
进气口	DN 63 CF-F
极限真空 hPa	< 5X10-10
氮气的压缩比	> 1X1011
氮气的抽气速度  l/s	67
工作电压: V DC	24 (± 5 %)
氮气的前级真空最大值 hPa	22
重量 kg	3.8
噪音 dB(A)	≤48

上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵适用于
分析仪器: 电子显微镜, 检漏, 小型质谱, 表面分析, 残余气体分析
半导体: PVD, inspection, bonding, MBE, load-locks
工业: 医学技术, 工业检漏, 隔离真空, 灯管制造
研发: 核研究, 等离子研究, 粒子加速器, 冷冻研究, 纳米技术, 生物技术

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上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐
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