KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
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KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用

伯东公司 KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用

常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号:

蒸镀机台尺寸

KRI 离子源

~1100mm

eH1010

1100~1400mm

eH1010, eH1020

1400~1900mm

eH1020, eH3000


离子源


KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计,提供使用者在操作上更是便利。

离子源


KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性。

离子源


伯东公司客户 1400 mm 蒸镀镀膜机安装 KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F,应用于塑料光学镀膜

离子源
离子源

离子源


KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:

Filament Controller

Discharge controller

Gas controller

17.2A/ 22V

150V/ 4.85A

Ar/ 32sccm

离子源


利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较:

 

KRI EH1020 辅助镀膜

无 Ion Source 辅助镀膜

盐水煮沸脱膜测试

破坏性百格脱膜测试

光学折射设率

膜层致密性

膜层光学吸收率

制程腔体加热温度

生产成本

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 






KRI 考夫曼霍尔离子源系列主要型号包含:

 

离子源 eH200

 离子源 eH400

离子源 eH1010

离子源 eH1020

离子源 eH3000

Cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Hollow cathode

Water Cooled Anode

no

no

no

yes

no

Discharge Currentmax

2 A

3.5 (7) A

10 (7) A

10 (20) A

20 (10) A

Discharge  Voltagemax

300 V

300 (150) V

300 (150 ) V

300 (150) V

250 (300) V

Discharge  Voltagemin

40* V

40* V

40* V

40* V

40* V

Divergence (hmhw)

45°

45°

45°

45°

45°

Height (nominal)

2.0”

3.0”

4.0”

4.0”

6.0”

Diameter (nominal)

2.5”

3.7”

5.7”

5.7”

9.7”


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
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