KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用阅读数: 14836
伯东公司 KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号:
蒸镀机台尺寸 |
KRI 离子源 |
~1100mm |
eH1010 |
1100~1400mm |
eH1010, eH1020 |
1400~1900mm |
eH1020, eH3000 |
KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计,提供使用者在操作上更是便利。
KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性。
伯东公司客户 1400 mm 蒸镀镀膜机安装 KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F,应用于塑料光学镀膜。
KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:
Filament Controller |
Discharge controller |
Gas controller |
17.2A/ 22V |
150V/ 4.85A |
Ar/ 32sccm |
利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较:
|
KRI EH1020 辅助镀膜 |
无 Ion Source 辅助镀膜 |
盐水煮沸脱膜测试 |
优 |
劣 |
破坏性百格脱膜测试 |
优 |
劣 |
光学折射设率 |
高 |
低 |
膜层致密性 |
优 |
劣 |
膜层光学吸收率 |
无 |
有 |
制程腔体加热温度 |
低 |
高 |
生产成本 |
低 |
高 |
KRI 考夫曼霍尔离子源系列主要型号包含:
|
离子源 eH200 |
离子源 eH400 |
离子源 eH1010 |
离子源 eH1020 |
离子源 eH3000 |
Cathode |
Filament or Hollow cathode |
Filament or Hollow cathode |
Filament or Hollow cathode |
Filament or Hollow cathode |
Hollow cathode |
Water Cooled Anode |
no |
no |
no |
yes |
no |
Discharge Currentmax |
2 A |
3.5 (7) A |
10 (7) A |
10 (20) A |
20 (10) A |
Discharge Voltagemax |
300 V |
300 (150) V |
300 (150 ) V |
300 (150) V |
250 (300) V |
Discharge Voltagemin |
40* V |
40* V |
40* V |
40* V |
40* V |
Divergence (hmhw) |
45° |
45° |
45° |
45° |
45° |
Height (nominal) |
2.0” |
3.0” |
4.0” |
4.0” |
6.0” |
Diameter (nominal) |
2.5” |
3.7” |
5.7” |
5.7” |
9.7” |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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