磁控溅镀设备 FPD-PVD
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磁控溅镀设备 FPD-PVD

磁控溅镀设备 FPD-PVD
随着 LCD 面板和制造所需玻璃的尺寸的增加, 制造设备也随着变得更大, 需要越来越大的设备投资. 上海伯东代理磁控溅镀设备 FPD-PVD 针对中小尺寸的需求开发串集的 PVD 设备, 拥有 4个单独的溅镀腔体, 让客户能任意搭配沉积的材料, 同时保有弹性和具有选择性的系统.
磁控溅镀设备 FPD-PVD

配置和优点
客制化基板尺寸最大为 550 x 650 mm2(玻璃)
薄膜均匀度小于±5%
稳定的温度控制, 可将基板加热到 400°C

选件
Cassette 传送站
基材电浆清洁
OES, RGA 或制程监控的额外备用端口

应用领域
TFT-LCD
太阳能电池
触碰屏氧化物, 氮化物和金属材料的研究

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