NS 离子蚀刻机 20IBE-J
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NS 离子蚀刻机 20IBE-J

NS 离子蚀刻机 20IBE-J
适合大规模量产使用的离子刻蚀机

基片尺寸

Φ4 inch X 12片
φ5 inch X 10片
φ6 inch X 8片

样品台

直接冷却,水冷

离子源

Φ20cm 考夫曼离子源

伯东离子蚀刻机主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置,使得在薄膜磁头,半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用。
2. 物理蚀刻的特性,无论使用什么材料都可以用来加工,所以各种领域都可以被广泛应用。
3. 配置使用美国考夫曼公司原装制造的离子源。
4. 射频角度可以任意调整,蚀刻可以根据需要做垂直,斜面等等加工形状。
5. 基板直接加装在直接冷却装置上,所以可以在低温环境下蚀刻。
6. 配置公转自转传输机构,使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。
7. 机台设计使用自动化的操作流程,所以可以有非常友好的使用生产过程。

NS 离子蚀刻机 20IBE-J 图片:
离子蚀刻机
离子蚀刻机


通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
NS离子蚀刻机

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