KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列

1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson,Inc 公司,研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless。美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利。广泛用于离子清洗、离子蚀刻、辅助镀膜领域。上海伯东是美国考夫曼离子源(离子枪)中国总代理。

KRI 考夫曼离子源 RFICP 40

目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

KRI 考夫曼离子源 RFICP 100

 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流

KRI 考夫曼离子源 RPICP 140

KRI 考夫曼型离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积

KRI 考夫曼离子源 RFICP 220

KRI 考夫曼型离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻

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