KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列

射频离子源, 提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长

考夫曼离子源 RFICP 40

目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

考夫曼离子源 RFICP 100

 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流

考夫曼离子源 RPICP 140

KRI 考夫曼型离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积

考夫曼离子源 RFICP 220

KRI 考夫曼型离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻

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