KRI 霍尔离子源 eH 3000
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KRI 霍尔离子源 eH 3000

KRI 霍尔离子源 eH 3000
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 , KRI 霍尔离子源 eH 系列里面尺寸最大, 能量最大的离子源. 适用于高功率和高流量应用. 霍尔离子源 eH 3000 输出高离子电流, 适用于大型离子辅助镀膜. 例如安装在沉积尺寸超过 1米的应用. 霍尔离子源 eH 3000 是镀膜生产中最具高效的离子源之一.

KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数:

型号

eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

50-250V VDC

  - 离子源直径

~ 7 cm

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-25020A

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

 - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

 - 水冷

前板水冷

 - 底座

移动或快接法兰

 - 高度

4.0'

 - 直径

5.7'

 - 加工材料

金属
电介质
半导体

 - 工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安装距离

16-45”

 - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架;

KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD

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