KRi 考夫曼离子源应用
No. | 标题 | 日期 | 阅读数 |
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1 | KRI 射频离子源应用于多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter | 2025-03-01 | 93 |
2 | KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System | 2025-03-01 | 81 |
3 | KRI 离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter | 2025-03-01 | 59 |
4 | 上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源简介 | 2024-09-04 | 64 |
5 | KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter | 2025-03-01 | 56 |
6 | KRI 离子源应用于超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System | 2025-03-01 | 50 |
7 | KRI 离子源应用于有机材料热蒸镀设备 OLED, OPV | 2025-03-01 | 62 |
8 | KRi 射频离子源 RFICP 100 应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD | 2025-03-01 | 54 |
9 | 美国 KRi 离子源常见工艺应用 | 2025-03-01 | 46 |
10 | KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用 | 2025-03-01 | 69 |