应用讯息
上海伯东美国 KRI 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 套装包含离子源本体和电源控制器. 射频离子源单次工艺时间更长, 特别适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜!
-------------- 离子源自动控制器 -------------- -------- 射频离子源 RFICP 380 本体 ----
射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
射频离子源 RFICP 380 技术规格:
阳极 |
电感耦合等离子体 |
最大阳极功率 |
>1kW |
最大离子束流 |
> 1000mA |
电压范围 |
100-1500V |
离子束动能 |
100-1200eV |
气体 |
Ar, O2, N2,其他 |
流量 |
5-50sccm |
压力 |
< 0.5mTorr |
离子光学, 自对准 |
OptiBeamTM |
离子束栅极 |
38cm Φ |
栅极材质 |
钼或石墨 |
离子束流形状 |
平行,聚焦,散射 |
中和器 |
LFN 2000 |
高度 |
38.1 cm |
直径 |
58.2 cm |
锁紧安装法兰 |
12”CF |
大口径射频离子源典型应用:
射频离子源安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产
在高倍显微镜下检视脱膜测试
--------- 使用其他品牌离子源--- --------------------- 使用美国 KRI 射频离子源 ----------------------
从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国 KRI 射频离子源, 样品无崩边
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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