上海 应用讯息
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 EH 1000 安装于磁控溅射设备对聚氨酯类的材料进行清洗前处理.
在进行镀膜等工艺前, 对原样品的表面平整度, 洁净程度等参数会有不同的要求. 对于不达标的样品需要进行前处理, KRI 霍尔离子源可以很好的解决这类的问题.
KRI 离子源清洗在真空室中进行, 基板表面清洁后可以立即沉积, 短停留时间暴露于真空背景清洁并活化基材表面比辉光放电更清洁, 生产率更高; 无需基板偏置, 无需高压, 消除了大多数腔室壁的溅射, 没有额外的抽空, 很好地提高了整体工艺的效率与质量.
KRI 霍尔离子源清洗样品示意图:
上海伯东 KRI 霍尔离子源可以在低功耗的情况下进行大电流的工作, 很好的处理样品的清洁度和平整度.可以根据不同的工艺要求来控制样品表面的光滑 / 粗糙程度. 一致且可靠地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 达到清洗前处理的作用, 稳定工艺并提高产品产量.
|
型号 |
|||||
|
中和器 |
F or HC |
F or HC |
F or HC |
F or HC |
F |
|
阳极电压 |
50-300 V |
50-300 V |
50-300 V |
50-250 V |
50-300 V |
|
离子束流 |
5A |
10A |
10A |
20A |
根据实际应用 |
|
散射角度 |
>45 |
>45 |
>45 |
>45 |
>45 |
|
气体流量 |
2-25 sccm |
2-50 sccm |
2-75 sccm |
5-100 sccm |
根据实际应用 |
|
本体高度 |
3.0“ |
4.0“ |
4.0“ |
6.0“ |
根据实际应用 |
|
直径 |
3.7“ |
5.7“ |
5.7“ |
9.7“ |
根据实际应用 |
|
水冷 |
可选 |
可选 |
是 |
可选 |
根据实际应用 |
若您需要进一步的了解离子源或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东：叶小姐 台湾伯东：王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 ) M: +886-939-653-958
qq:2821409400
现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267
上海伯东版权所有, 翻拷必究！