应用讯息
上海伯东德国普发 Pfeiffer 分子泵成功应用于磁控溅射联合脉冲激光沉积系统
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。可用于制备金属、绝缘体等多材料,具有易于控制镀膜面积大附着力强等优点,磁控溅射法更实现了高速、低温、低损伤。在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段.PLD系统需要超高真空且不能引入任何杂质,对环境的清洁度要求较高,必须配备无油干泵和分子泵抽真空。
上海伯东客户案例:中科院某研究所采购 Pfeiffer 涡轮分子泵用于磁控溅射联合脉冲激光沉积系统
1.系统功能:主要用于陶瓷氧化膜,金属膜,Mn氧化物膜。
2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.样品尺寸:大约1-2cm2
4.基板加热温度:700至1000度
5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间 控制模式
该磁控溅射联合脉冲激光沉积系统主要配置以下 Pfeiffer 分子泵:
1.涡轮分子泵 Pfeiffer Hipace 80 *3
2.涡轮分子泵 Pfeiffer Hipace 700 *4
与友厂同级别分子泵相比,上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵主要优点如下:
1.高压缩比 >1x108 ,保证高抽气效率
2.使用寿命长,耐大气冲击
3.复合型涡轮分子泵:内置陶瓷轴承,磁性轴承,紧急轴承;耐大气冲击,易维护保养
4.大抽速 (N2)
5.业内公认最大转子速率可达 90000rpm
真空磁控溅射镀膜机广泛应用于家电电器、钟表、灯具、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表、塑料、玻璃、陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
上海伯东主要经营产品:德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵:应用于各种条件下的真空计,氦质谱检漏仪,质谱分析仪,以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源,美国HVA真空阀门,Polycold冷冻机等
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