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分子泵应用于 LED 芯片退火合金炉
LED 芯片退火合金炉属于真空炉的一种, 需要在真空环境下实现 LED 芯片的退火, 合金, 湿氧氧化, 欧姆电极烧结等工艺. 腔体真空度一般在 10-3 至 10-6 hPa 之间, 上海伯东德国 Pfeiffer 分子泵凭借大抽速,高稳定性广泛应用于退火合金炉设备.
分子泵在真空炉中的作用
在真空炉中, 工件受到加热, 真空泵负责产生低含氧量的气体环境. 这可防止工件氧化. 取决于真空炉类型, 真空的效用可能各不相同. 在真空烧结中, 真空可改善工件的表面质量和实现脱粘工艺; 在真空钎焊中, 真空可产生脱气效果, 从而提高焊缝的硬度和质量; 在真空硬化中, 真空可防止变形, 由此同样可改善表面质量. 此工艺的另一项优点, 是可以在硬化过程之后直接氮化. 对于每种工艺, 都有必要在定义的时间内达到工艺压力. 上海伯东德国 Pfeiffer 分子泵短抽空时间可以由此提高企业产能, 同时抽空过程还有去除不希望物质（例如氢）这一重要作用.
推荐分子泵型号:
上海伯东 Pfeiffer 分子泵抽速 10-1900 l/s, 高气流量, 高抽速, 占用空间小, 方便系统集成.
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型号 |
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进气口 |
DN 100 ISO-K |
DN 160 ISO-K |
DN 250 ISO-K DN 250 CF-F |
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氮气抽速 l/s |
260 |
685 |
1900 |
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最大极限真空度 hPa |
＜5X10-10 |
＜5X10-10 |
＜5X10-10 |
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电压 ± 5 %, VDC |
24 |
48 |
90-265 |
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噪音 dB(A) |
≤50 |
≤50 |
≤50 |
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转速 RPM ± 2 % |
60000 |
49200 |
31500 |
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最大预抽真空 hPa |
15-22 |
11 |
1.8 |
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重量 kg |
5.8-8.7 |
10.6-16.5 |
35.5-51.8 |
上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 系列获得 Semi S2, UL, CSA 和 Nema 12 认证. 为高真空应用提供解决方案, 适用于质谱分析, 电子显微术, 测量技术, 粒子加速和等离子体物理方面的应用. 除了用于分析, 真空工艺和半导体技术外, 还可用于真空镀膜, 研发以及工业领域.
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