线性霍尔离子源 eH Linear
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线性霍尔离子源 eH Linear

KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
上海伯东代理美国原装进口 KRI  线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.

霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数

型号

eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

40-200V VDC

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHL-30010A

配置

-

  - 阴极中和器

Filamentless

  - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

10 cm

宽度

10 cm

  - 长度

~ 100cm

  -工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

 

Model

eHL 200-3

eHL 200-5

Height (nominal)

2.9” (7.4cm)

2.9” (7.4cm)

Width (nominal)

3.3” (8.4cm)

3.3” (8.4cm)

Length (nominal)

Determined by number of modules & application

Determined by number of modules & application

Cathode/Neutralizer

Yes

Yes

Anode module

Yes

Yes

Filamentless

Yes

Yes

Orientation

Vertical / Horizontal

Vertical / Horizontal

Process gases

Inert, reactive, & organic

Inert, reactive, & organic

Power controller

eH Plasma Power Pack

eH Plasma Power Pack


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
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