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KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数
型号 |
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
供电 |
DC magnetic confinement |
- 电压 |
40-200V VDC |
- 阳极结构 |
模块化 |
电源控制 |
eHL-30010A |
配置 |
- |
- 阴极中和器 |
Filamentless |
- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
- 阳极 |
标准或 Grooved |
- 底座 |
移动或快接法兰 |
- 高度 |
10 cm |
宽度 |
10 cm |
- 长度 |
~ 100cm |
-工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
Model |
eHL 200-3 |
eHL 200-5 |
Height (nominal) |
2.9” (7.4cm) |
2.9” (7.4cm) |
Width (nominal) |
3.3” (8.4cm) |
3.3” (8.4cm) |
Length (nominal) |
Determined by number of modules & application |
Determined by number of modules & application |
Cathode/Neutralizer |
Yes |
Yes |
Anode module |
Yes |
Yes |
Filamentless |
Yes |
Yes |
Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
Process gases |
Inert, reactive, & organic |
Inert, reactive, & organic |
Power controller |
eH Plasma Power Pack |
eH Plasma Power Pack |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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