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离子束刻蚀机 IBE

Hakuto 日本原装设计制造离子束刻蚀机 IBE (离子蚀刻机) 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 纳米级别材料的表面刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%. IBE 刻蚀机几乎满足所有材料的刻蚀. 例如磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 广泛应用于 RF 射频器件, MEMS 传感器, 磁性器件 …, 满足研发和量产需要. IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料.

自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子刻蚀机. 刻蚀机配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵. 伯东公司超过 50年的离子束刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!

离子蚀刻机 10 IBE

离子蚀刻机 10 IBE 产品详细资料

小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究
样品数量尺寸: 4”φ, 1片

 离子刻蚀机

 

离子蚀刻机 20 IBE-C

离子蚀刻机 20 IBE-C 产品详细资料

适合中等规模量产使用的离子刻蚀机
样品数量尺寸: 4”φ, 6片 或 6”φ, 4片

离子蚀刻机 20 IBE-J

离子蚀刻机 20 IBE-J 产品详细资料

适合大规模量产使用的离子刻蚀机

 

 

 

全自动离子刻蚀机 MEL 3100

全自动离子刻蚀机 MEL 3100 产品详细资料

全自动离子刻蚀机,
样品数量尺寸: 3”φ - 6”φ,1片

 全自动离子刻蚀机

 

离子蚀刻机 4 IBE

离子蚀刻机 4 IBE 产品详细资料

小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究
样品数量尺寸: φ4” X1
配置考夫曼离子源, 德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵

 离子刻蚀机

 

离子蚀刻机 7.5 IBE

离子蚀刻机 7.5 IBE 产品详细资料

小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究
样品数量尺寸: 4”φ, 1片
配置考夫曼离子源 KDC 75

 离子蚀刻机

 

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