霍尔离子源 eH 200
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霍尔离子源 eH 200

KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

型号

eH 200

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

40-300V VDC

  - 离子源直径

~ 2 cm

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 阴极中和器

Filament or Hollow Cathode

  - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 水冷

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

2.0'

  - 直径

2.5'

  -加工材料

金属
电介质
半导体

  -工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安装距离

6-24”

  - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD

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上海伯东: 叶小姐                                  台湾伯东: 王小姐
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