Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制
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Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

Aston™ 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

先进半导体应用的原位过程控制
上海伯东日本 Atonarp Aston™  Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺(如沉积和蚀刻)所需的定量气体分析.

Aston™质谱分析
分子测量

快速,灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染.

Aston™质谱分析
提高产量

提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量

Aston™质谱分析
提高安全性

监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.


Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题

• 提高吞吐量: 端点检测而不是基于时间的流程
• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物

Aston™ 质谱仪先进工艺的优势
ppb 级灵敏度的高速采样
非常适合高纵横比的 3D 结构
耐腐蚀性气体
坚固紧凑
易于集成到工具平台中
沉积应用中:  实时过程气体监控,以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程
蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁

Atonarp  Aston™ 技术参数

类型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型号

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

质量分离

四级杆

真空系统

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

检测器

FC /SEM

质量范围

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

检测限

0.1 PPM

工作温度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston™ 质谱仪半导体制造应用

先进的工艺
原子层沉积 (ALD)
化学气相沉积 (CVD)
原子层蚀刻 (ALE)

室管理
干净的终点检测
指纹识别和匹配
 

Sub-fab 安全性, 可持续性和节省优化
过程安全监控
干泵保护
减排管理

质谱分析仪

沉积
化学气相沉积

TEOS

蚀刻
介电,导电,金属
高纵横比 <1% 开放区域检测


EUV/光刻
SnH4 蚀刻
光掩模蚀刻

自主过程控制
模型驱动的实时过程监控


若您需要进一步的了解 Atonarp  Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161
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