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KRI 霍尔离子源 Gridless End-Hall

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
离子源     霍尔离子源                                           射频离子源                       考夫曼离子源                              离子源自动控制器

霍尔离子源 Gridless 提供高电流低能量 end-Hall 系列产品, 包含宽束霍尔型离子源和电源控制器, 整体设计, 易于系统集成, 霍尔离子源典型应用: 辅助镀膜 IABD, 镀膜预清洁 ISSP, 离子蚀刻等

KRI 霍尔离子源 eH 系列

KRI 霍尔离子源 eH 系列 产品详细资料

霍尔离子源无栅极, 高浓度, 低能量宽束型离子源

型号

eH 200

eH 400

eH 1000

eH 2000

eH 3000

离子束流

2A

5A

10A

10A

20A

离子动能

30-300 V

50-300 V

100-300 V

50-250 V

50-250 V

栅极直径

2.5”

3.7”

5.7”

5.7”

9.7”

离子束

> 45°散射

KRI 霍尔离子源 eH 400

KRI 霍尔离子源 eH 400 产品详细资料

霍尔离子源 eH 400
尺寸:直径= 3.7“ 高= 3”
离子束动能: 50-300eV
电流: 5a

霍尔离子源 eh400

KRI 霍尔离子源 eH 1000

KRI 霍尔离子源 eH 1000 产品详细资料

霍尔离子源 eH 1000
尺寸:直径= 5.7“ 高= 5.5”
离子束动能: 50-300V
电流: 10A

霍尔离子源

KRI 霍尔离子源 eH 2000

KRI 霍尔离子源 eH 2000 产品详细资料

霍尔离子源 eH 2000
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
离子束动能: 50-300V
电流: 10A 或 15A

霍尔离子源eh2000

霍尔离子源 eH 3000

霍尔离子源 eH 3000 产品详细资料

霍尔离子源 eH 3000
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
放电电压: 50-300V
电流: 20A

霍尔离子源eh3000

线性霍尔离子源 eH Linear

线性霍尔离子源 eH Linear 产品详细资料

霍尔离子源型号

eH400-X

长度

~ 100 cm

霍尔离子源 eH 200

霍尔离子源 eH 200 产品详细资料

eH200 是霍尔离子源型eH 系列中尺寸最小,低成本设计离子源

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