KRi 霍尔离子源 Gridless End-Hall

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.
霍尔离子源 射频离子源 考夫曼离子源 离子源自动控制器
霍尔离子源 eH 400
低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统
型号 |
离子束动能 |
最大离子束流 |
栅极直径 |
离子束流形状 |
eH 400 |
50-300 V |
5A |
3.7” |
> 45°散射 |
霍尔离子源 eH 2000
eH 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合大中型真空系统
型号 |
离子束动能 |
最大离子束流 |
栅极直径 |
离子束流形状 |
eH 2000 |
50-250 V |
10A |
5.7” |
> 45°散射 |
霍尔离子源 eH 1000
eH 1000 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻
型号 |
离子束动能 |
最大离子束流 |
栅极直径 |
离子束流形状 |
eH 1000 |
100-300 V |
10A |
5.7” |
> 45°散射 |
霍尔离子源 eH 3000
适合大型真空系统, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
型号 |
离子束动能 |
最大离子束流 |
栅极直径 |
离子束流形状 |
eH 3000 |
50-250 V |
20A |
9.7” |
> 45°散射 |
线性霍尔离子源 eH Linear
线性离子源使用 eH 400 做为模块, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模块间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流
型号 |
离子束动能 |
最大离子束流 |
栅极直径 |
离子束流形状 |
eH Linear |
50-300 V |
NA |
NA |
> 45°散射 |