KRi 离子源中和器和控制器

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. KRi 离子源在真空环境中实现薄膜沉积, 干式纳米刻蚀和修改材料表面性能.

在真空环境下, 通过使用美国 KRi 离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, 具有原子级控制的材料和表面特征.

美国 KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.

离子源       霍尔离子源                                       射频离子源                                  考夫曼离子源                              离子源中和器

KRi 离子源电源控制器 Power Supplies

上海伯东美国 KRi 提供的离子源模块化电源控制器, 可以操作各种离子, 等离子体和电子源, 用于在等离子体处理中, 输出稳定和可重复功率的动态负载. 可以在恶劣的环境中正常运转, 易于系统集成.

KRI 霍尔离子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器

美国考夫曼公司霍尔离子源控制器替代 Veeco Commonwealth 控制器, 不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做!

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