KRI 射频离子源 Gridded RFICP

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
离子源     霍尔离子源                                           射频离子源                       考夫曼离子源                              离子源自动控制器

KRI 射频离子源 RFICP 系列

射频离子源, 提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜

型号

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

离子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

KRi 射频离子源 RFICP 220

射频离子源 RFICP 220
尺寸:直径= 16.1“ 高= 11.8”
离子束动能: 100-1200 V
电流: >1A

射频离子源 RFICP220

KRi 射频离子源 RFICP 380

KRI 大面积射频离子源 RFICP 380, 离子束流 >1500 mA, 离子动能 100-1200 V

KRi 射频离子源 RFICP 100

 KRI 射频离子源 RFICP 100 紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出最大 400 mA 离子流

KRi 射频离子源 RFICP 40

KRI 射频离子源 RFICP 40, 尺寸小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

射频离子源 RFICP 140

KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 可以输出最大 600 mA 离子流

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