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上海伯东代理进口高真空电子束蒸发系统, 薄膜均匀性：≤±2％, 助力科研创新！
上海伯东代理高真空电子束蒸发系统, 薄膜均匀性：≤±2％, 喜获高校订单, 助力科研创新, 适用于光学材料研究 (LED / Laser Diode), 光电元件, 半导体元件.
高真空电子束蒸发系统 性能指标
基座可公转旋转, 最高转速20 rpm，5～20 rpm可调
乘载盘承载最大4英吋样品(可放小于4吋的样品或破片)
镀膜均匀性: 4英寸范围内薄膜厚度均匀性优于±2%
极限真空度优于 3 × 10-7 Torr
抽气效率：atm to 3 × 10-6 Torr < 25min
atm to 5 × 10-7 Torr < 55min
电子束蒸发源 × 1，坩埚容量：分子7 cc，坩埚数量4，自动旋转坩埚，电子束可扫描
6 kW电子束蒸发源电源 × 1
上海伯东代理电子束蒸发镀膜设备 E-Beam Deposition Evaporation, 可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构, 电子束蒸镀设备可以结合美国 KRi 离子源进行离子辅助沉积或者预清洁等功能. 满足客户实际应用!
若您需要进一步的了解 高真空电子束蒸发系统, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐 台湾伯东: 王小姐
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