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Atonarp Aston 质谱仪 ALD 气体分析
上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪在 -4 mbar 真空下进行 ALD 工艺气体分析, 与传统残余气体分析仪对比, Aston 质谱仪可选电感耦合等离子体源 ICP, 使用寿命更长, 快速进行ALD 气体分析.

Atonarp Aston 质谱仪 ALD 气体分析优势
更快的速度, 更高的灵敏度 PPB 级别, 为 ALD 优化产量和安全管理提供支持
Aston 质谱仪可以在复杂的原位半导体制造过程中进行定量, 快速的气体分析
提供实时的, 化学特定的, 可行的见解
提供耐腐蚀性气体和冷凝物型号



适用于 ALD 气体分析的 Aston 质谱仪基本参数

型号	Aston Impact-300	Aston Impact-300DP	Aston Plasma -300	Aston Plasma -300DP
质量分离	四级杆
离子发生器	电子电离 EI	电子电离EI	电子电离 EI 电感耦合等离子体源 ICP	电子电离 EI 电感耦合等离子体源 ICP
检测器	法拉第杯 / 扫描电镜
真空系统	涡轮分子泵	涡轮分子泵 隔膜泵	涡轮分子泵	涡轮分子泵 隔膜泵
质量范围	2-285 amu
检测限	100 ppb
精度	0.5%
可重复性	+/-0.5%
稳定性	+/-0.5% over 24 Hr
耐腐蚀性气体	轻微	轻微	耐腐蚀	耐腐蚀
耐副产物气体	是
高速以太网	是
气体压力覆盖面广	是
软件	数据分析, 数量分析

上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中  ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量!



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