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KRi 直流磁控溅射电源
上海伯东代理美国 KRi 直流磁控溅射电源适用于各品牌磁控溅射镀膜机, 低压直流电源 0-1000 V, 稳定的控制磁控溅射阴极. 真正的电弧检测和抑制. KRi 直流磁控溅射电源可以最大限度地减少基材和目标的损坏, 最大化沉积时间.
KRi 直流磁控溅射电源特点:
真正的电弧检测和抑制: <100 nsec 电弧检测
最小电弧能量:能量:<1mJ : 最大限度地减少基材和目标的损坏, 最小化粒子生成, 最大化沉积时间
从 25 到 1500W 稳定的输出功率
电压, 电流和功率调节模式
可调运行定时器, 可调功率斜坡
配方存储多达 7个单独的目标
KWHr 计数器时间限制
紧凑设计: 仅需一个单元
0-1000V 和 0.4A 工作范围: 满额定功率可适用于大阻抗范围
大阻抗范围: 不需要在整个范围内更换变压器分接
可调电弧处理参数: 后电弧检测延迟时间; 重新启动前的电弧检测输出断开时间
弧度计数器: 目标条件和工艺环境的指示
KRi 直流磁控溅射电源参数:
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产品 |
KRI 直流磁控溅射电源 1.5kW |
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型号 |
标准型 |
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输入功率 |
50-60 Hz / singleФ/ 100-240 VAC |
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全功率阻抗范围 |
1:7 (94-667 ohms) |
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最大 V/I |
1000V / 4A |
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点火 V |
1000V |
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输出连接器 |
HN |
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认证 |
CE & NRTL |
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电弧抑制 |
是 |
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电弧能量 |
< 1mJ |
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弧度计数器 |
是 |
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尺寸: 高X宽X深 |
4.44 X 48.3 X 50 cm |
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重量 |
8.2 kg |
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远程控制 |
analog & RS 232 |
KRi 直流磁控溅射电源典型应用
金属磁控溅射, 反应膜层溅射
上海伯东美国 KRi 提供的离子源模块化电源控制器, 可以操作各种离子, 等离子体和电子源, 用于在等离子体处理中, 输出稳定和可重复功率的动态负载. 可以在恶劣的环境中正常运转, 易于系统集成.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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