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ULVAC-PHI 爱发科费恩斯

上海伯东代理 ULVAC-PHI 爱发科费恩斯超高真空表面分析仪器, 包含光电子能谱仪 ( XPS ) ,俄歇电子能谱仪 (AES), 飞行时间二次离子质谱仪 (Tof-SIMS) 和动态二次离子质谱仪 (D-SIMS ), 应用领域包括纳米技术, 太阳能技术, 微电子技术, 存储介质, 催化, 生物材料, 药品以及金属, 矿物, 聚合物, 复合材料和涂料等基础材料.
ULVAC-PHI 超高真空表面分析仪

光电子能谱仪 PHI GENESIS 500

光电子能谱仪 PHI GENESIS 500 产品详细资料

光电子能谱仪 PHI GENESIS 500 适用于科学研究和高科技产业等领域, 包括材料科学, 能源科学, 半导体器件, 微电子器件以及表面处理和表面异常检测等.

硬X射线光电子能谱仪 HAXPES

硬X射线光电子能谱仪 HAXPES 产品详细资料

硬X射线光电子能谱仪 PHI GENESIS 900, 与传统的 XPS（软X射线光电子能谱）相比, HAXPES 具有更深的探测深度, 通常可达约 30nm, 适用于多层薄膜, 半导体光电器件等样品的无损深度分析.

俄歇电子能谱仪 PHI 710

俄歇电子能谱仪 PHI 710 产品详细资料

俄歇电子能谱仪 PHI 710 适用于半导体器件, 微电子器件和材料科学等研究

飞行时间二次离子质谱仪 PHI nanoTOF 3+

飞行时间二次离子质谱仪 PHI nanoTOF 3+ 产品详细资料

飞行时间二次离子质谱仪 PHI nanoTOF 3+, 表面灵感度高, 提供表面几个原子层的分子, 元素及其同位素的组成信息.

动态二次离子质谱仪 ADEPT-1010

动态二次离子质谱仪 ADEPT-1010 产品详细资料

动态二次离子质谱仪 ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计, 是大多数半导体开发和支持实验室的常用工具. 通过优化的二次离子收集光学系统和超高真空设计, 提供了薄膜结构检测中的掺杂组分和常见杂质所需的灵敏度.

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